거품세척시스템은 식품공장 내 상수 압력을 Boost 시켜주는 '메인스테이션'과 메인스테이션으로부터 고압수를 받아서 사용하는 '보조스테이션' 으로 구성됩니다.
각 개소마다 독립적으로 고압수(25bar 이하) 분사, 거품 분사, 소독제 분사가 가능합니다.
세척의  4대요소의 균형을 맞추며 기존의 고압세척기 보다 설비와 사용자가 안전하며 비산이 적어 세척의 완성도가 높습니다.

보다 편리하고 완성도 높은 세척을 위해 HMT의 거품세척시스템은 고압수분사, 거품분사, 소독제분사를 이용하여 세척 4대요소의 밸런스를 맞추었습니다.

‌거품세척시스템을 이용하여 세척을 진행하실때 필요한 세척단계입니다.‌

01

전처리 헹굼

생산설비와 현장에 남은 찌꺼기와
부산물들을 1차적으로 헹구어내어
설비의 표면이 드러나게 합니다.

02

거품 분사

전처리헹굼이 끝난 설비와 현장에
거품을 분사합니다.
거품은 아래에서 위쪽 방향으로
최대한 얇게 도포합니다.
거품도포가 끝난 후 10~15분간의
화학제 반응시간을 부여합니다.

03

헹굼

화학제 반응이 끝난 설비와 현장에
헹굼수를 분사하여 거품을
위에서 아래쪽 방향으로 걷어내듯이
헹구어 줍니다.
헹굼 단계에서 세척은 마무리 됩니다.

04

소독제 분사

세척이 마무리된 설비표면과 현장에
소독제를 분사합니다.
소독제는 아래에서 위쪽 방향으로
최대한 꼼꼼하게 분사합니다.